集成电路布图设计登记证书（含撰写可行性报告/技术方案/递交申报）

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集成电路布图设计登记证书（含撰写可行性报告/技术方案/递交申报）

我国目前正大力发展国家高新技术实力，扶持和鼓励企业的发展。很多地区针对高新技术企业也制定了非常好的奖励政策。集成电路布图设计正是高新技术企业申报中知识产权部分的重要内容，属于分值最高的Ⅰ类知识产权。集成电路布图设计，根据《集成电路布图设计保护条例》第二条，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。上述的集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或全部互连线路集成在基片中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。

获得集成电路布图设计专有权后，未经布图设计权利人许可，他人不得：

（1）复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分；

（2）为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品。

有上述行为之一的，被认为侵犯布图设计专有权。行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任。

集成电路布图设计登记的条件

1、要求保护的布图设计必须具有独创性，即该布图是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时，该布图设计不是布图设计创作者和集成电路制造者中公认的常规设计；

2、受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体同样应当具有独创性。

办理集成电路布图设计登记证书需要准备的材料

1、集成电路布图设计登记申请表1份；

2、图样1份;

3、图样的目录1份；

4、集成电路布图设计在申请日前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件样品至国家知识产权局专利局；

5、申请人委托代理机构的，还应提交集成电路布图设计登记代理委托书；

6、包含集成电路布图设计图样电子件的光盘；

7、集成电路布图设计的简要说明。

布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。目前，集成电路布图设计在中国的知识产权领域属于专利范畴，价值较高，相比发明专利、实用新型，具有申请周期短的明显优势，可以帮助计划申报高新技术企业的集成电路企业在短期内拿到较高的知识产权评分。即使暂不申报高企，也必定是企业知识产权战略规划中的重要部分。

集成电路布图设计登记证书（含撰写可行性报告/技术方案/递交申报）

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